[IT/기술] 수율 20~30%에도 HBM3E 양산 선언한 CXMT, 앞에 남은 EUV 규제의 벽중국 창신메모리테크놀로지(CXMT)가 수율 20~30% 수준에도 HBM3E 샘플을 중국 AI 칩 설계업체들에 보내고 두 달 안에 제한 생산에 들어간다. SK하이닉스 약 70%와 격차가 나는 가운데, 2019년부터 이어진 EUV 노광장비 수출 규제 속 DUV 멀티패터닝과 4F² 구조 전환으로 미세화를 이어가는 전략과 한계를 짚는다.이윤철·2026-11-02· 조회 66#CXMT#HBM3E#EUV수출규제#DUV멀티패터닝#메모리반도체